据日经亚洲12月19日报道，Rapidus已成为日本第一家获得极紫外（EUV）光刻设备的半导体公司，并已开始在北海道北部城市千岁正在建设的“IIM-1”芯片制造厂安装EUV光刻系统。

12月14日，荷兰供应商ASML生产的极紫外光刻系统（EUV）的第一批组件抵达机场。由于该系统的规模很大，大约3.4米高，每个完整的单元重71吨，大约有一头鲸鱼那么大。它将分四个阶段安装，设备安装预计将在本月底完成。

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经由亚洲卸载EUV

极紫外光刻设备结合特殊光源、透镜等技术，形成超细电路图案。由于系统体积较大，其对振动和其他干扰的敏感性相对较低。

11月，Rapidus首席执行官Junichi Koichi带领ASML监事会成员Martin van den Brink参观了洁净室和其他工厂。Martin van den Brink担任首席技术官，在极紫外（EUV）技术的发展中发挥了关键作用，批准了设备的安装。

ASML是全球唯一的极紫外光刻系统供应商。每个系统的价格超过1.8亿美元（约合13.1亿元人民币），具体取决于型号。这些系统需要高水平的操作技能，只有包括台积电、三星电子和英特尔在内的少数芯片制造商采用了EUV系统。去年，全球仅交付了42套系统。

Rapidus正在与美国科技巨头IBM合作开发多阈值电压GAA（全环绕栅极）晶体管技术，预计将用于2nm工艺的大规模生产。Rapidus计划在2025年春季使用最先进的2纳米工艺开发原型芯片，并在2027年开始大规模生产芯片。全球最大的合同芯片制造商台积电计划到2025年开始大规模生产2纳米芯片。

更复杂的电路可以为逻辑芯片提供更高的能效和计算能力。先进的芯片在人工智能和其他技术中至关重要，这些技术将决定未来几十年的经济主导地位。

20世纪80年代，日本半导体产业占据了全球50%以上的市场份额。然而，在21世纪，由于技术发展滞后，日本芯片制造商无法生产出40纳米以上的先进芯片，并退出了生产更小工艺逻辑芯片的竞争。

Rapidus得到了政府的支持，旨在恢复日本生产先进芯片的能力，减少对进口的依赖。日本政府的目标是到2030年，日本芯片制造商的销售收入达到1.5万亿日元（约合705亿元人民币），是2020年的三倍。

目前，日本政府已决定向Rapidus提供9200亿日元（约合432亿元人民币）的补贴，并计划在2025财年向Rapidus投资2000亿日元（约94亿元人民币。然而，Rapidus仍面临4万亿日元（约合1881亿元人民币）的资金缺口。

12月18日，小池百合子在新千岁机场举行的仪式上表示：“我们将向世界交付北海道和日本的尖端半导体。”。

日本建筑商鹿岛建筑公司正在建造一座建筑，将容纳Rapidus的极紫外光刻系统（EUV）。洁净室采用高砂热工建造。

Rapidus的下一步是积累专业知识。该公司已向IBM派遣了约150名工程师，学习如何管理生产线。

根据日本政府的数据，到2030年，全球高端半导体市场预计将达到5.3万亿日元（约合2900亿元人民币），比2020年增长近8倍。